NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。氢与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与有机化合物反应常伴有爆炸性，操作时应十分谨慎。
三氟化氮（NF₃）监测报警系统是专用于检测NF₃气体浓度并实现安全联锁控制的工业安全设备，广泛应用于半导体刻蚀工艺、光伏制造等场景。其核心由探测器、控制器及联动模块构成。
工作环境：
温度：
催化燃烧：-40~+70℃；
电化学：-20~+50℃；PID：-20~+50℃；
红外：-20~+50℃；
荧光法：-20~+50℃；
氧化锆:-40℃~+700℃
压力：86-110Kpa；（氧化锆：≤0.6Mpa)
湿度：15%RH~95%RH（无凝露）
安装要求：
探测高度：距地面0.3-1.5米（因NF₃密度大于空气）。
气路连接：泵吸式采样时，流量需稳定在0.4-0.6L/min。
维护校准：
每季度用标准气体校准，偏差＞±5%需调整。
电化学传感器寿命约2年，NDIR传感器寿命＞5年。
更新时间：2025-07-21
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